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通過10通道并行外圍光抑制技術實現的高通量、亞衍射極限雙光子聚合直接激光寫入
《Laser & Photonics Reviews》：High-Throughput Sub-Diffraction-Limited Two-Photon Polymerization Direct Laser Writing via 10-Channels Parallel Peripheral Photoinhibition
【字體： 大 中 小 】 時間：2026年02月26日 來源：Laser & Photonics Reviews 10
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雙光子聚合直接激光寫入技術通過10通道并行周邊光抑制實現亞衍射極限3D納米打印，將懸空納米絲尺寸縮小至X納米并提升至Y voxels/s的打印速度，在光子器件、生物醫(yī)學界面和超材料制造中具有應用潛力。
雙光子聚合直接激光寫入（TPP-DLW）技術實現了完全的3D納米制造，并在光學元件、生物醫(yī)學設備和先進功能材料方面相比傳統(tǒng)光刻技術具有明顯優(yōu)勢。然而，制造精度和吞吐量仍然是關鍵瓶頸。針對這些挑戰(zhàn)，本文提出了一種10通道并行外圍光抑制直接激光寫入技術，稱為
作者聲明沒有利益沖突。
支持本研究結果的數據可向通訊作者提出合理請求后獲得。
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